頭孢混懸液膠體磨

1、混懸液中的微粒大小是不均勻的，大的微粒總是迅速沉降，細(xì)小微粒沉降速度很慢，細(xì)小微粒由于布朗運(yùn)動(dòng)，可長(zhǎng)時(shí)間懸浮在介質(zhì)中，使混懸液長(zhǎng)時(shí)間地保持混懸狀態(tài)。制備混懸液時(shí)，應(yīng)使混懸微粒有適當(dāng)?shù)姆稚⒍龋６染鶆颍詼p小微粒的沉降速度，使混懸液處于穩(wěn)定狀態(tài)。

2、傳統(tǒng)的混懸液生產(chǎn)都是采用普通膠體磨，轉(zhuǎn)速只有3000rpm，生產(chǎn)出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時(shí)間容易產(chǎn)生絮凝，影響藥效和使用，為此有醫(yī)藥廠家在考察了國(guó)內(nèi)的設(shè)備之后，放棄了具有極度價(jià)格優(yōu)勢(shì)的國(guó)內(nèi)設(shè)備，來詢問低能耗、高轉(zhuǎn)速、極精密定轉(zhuǎn)子、研磨細(xì)的上海SGN高速膠體磨。該設(shè)備轉(zhuǎn)速達(dá)到14000RPM，這可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速來實(shí)現(xiàn)。(轉(zhuǎn)速是普通分散設(shè)備3-4倍，研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍，這樣研磨的細(xì)度更小，效果更好)混懸液膠體磨GM2000三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。

1、SGN膠體磨GM2000采用了三級(jí)錯(cuò)齒磨頭定轉(zhuǎn)子，磨頭定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間，間隙可通過調(diào)節(jié)高速研磨機(jī)本身的調(diào)節(jié)柄來調(diào)節(jié)設(shè)備間隙，在轉(zhuǎn)速不變的情況下，間隙越小，速膠體磨研磨、分散效果會(huì)越好。

2、SGN工程師們通過改變皮帶輪的傳動(dòng)比例，使原本只有3000rpm的電機(jī)，經(jīng)過傳動(dòng)后設(shè)備轉(zhuǎn)速可以高達(dá)14000rpm。實(shí)踐證明，在磨頭定轉(zhuǎn)子間隙不變的情況下，轉(zhuǎn)速越高，高速膠體磨研磨、分散效果越好。

3、混懸液粒徑一般可細(xì)化至DN90≤10μm；

（價(jià)格電議：劉，公司有樣機(jī)可提供免費(fèi)實(shí)驗(yàn)）

1、轉(zhuǎn)速和剪切速率：

SGN膠體磨，可選擇德國(guó)機(jī)械密封，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)

國(guó)內(nèi)膠體磨，可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440S-1

通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍。

2、膠體磨頭和間距：

SGN膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三級(jí)乳化模塊，超高速模塊，GM膠體模塊，GMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊，間距可調(diào)，可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工。

國(guó)內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差。

3、機(jī)械密封：

SGN膠體磨，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至更低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)。

國(guó)內(nèi)膠體磨，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀。

1、結(jié)構(gòu)：磨頭定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)；

2、轉(zhuǎn)速范圍：0-14000rpm；

3、線速度范圍：0-44m/s；

4、處理量：0-10000L/H；

5、工作原理：高速剪切分散；